monitor和pirun的区别

  • 目的不同
    • monitor(监控):主要用于实时监测半导体制造过程中的各种工艺参数、设备状态以及产品质量等方面,以确保工艺处于稳定的可控状态。通过对监控数据的分析,可以及时发现工艺参数的漂移或异常,提前采取措施进行调整,防止大量产品出现质量问题。
    • pirun(试生产或小批量生产):是在正式大规模生产前进行的小规模测试生产。其目的是验证工艺的稳定性,确认新的工艺流程是否能满足要求,以及检测产品在某段工艺或特定工艺内是否存在缺陷或质量问题。
  • 使用的lot类别不同
    • monitor用的是control wafer
    • pirun用的是产品lot
  • 对象不同
    • monitor:监控的对象可以是机台设备、工艺参数、晶圆或芯片的质量特性等。例如,通过监测光刻工艺中的曝光剂量、蚀刻工艺中的蚀刻速率、薄膜沉积工艺中的薄膜厚度等参数,来评估工艺的稳定性和产品质量。
    • pirun:主要针对产品晶圆,使用产品晶圆作为先行实验片,直接检测产品在实际生产工艺中的表现。
  • 实施阶段不同
    • monitor:在半导体制造的整个过程中都有涉及,从晶圆的初始处理到芯片的封装测试,各个工艺环节都需要进行实时监控,以便及时发现问题并进行调整。
    • pirun:通常在工艺开发完成后、正式大规模生产之前进行。在这个阶段,会按照正式生产的工艺条件和流程,进行一小批产品的生产,以全面评估工艺的可行性和产品质量。
  • 作用不同
    • monitor:能够及时发现工艺中的微小变化和潜在问题,帮助工程师快速调整工艺参数,维持工艺的稳定性和一致性,从而提高生产效率和产品良率。同时,监控数据也可以作为工艺改进和设备维护的重要依据。
    • pirun:可以在大规模生产前暴露工艺中可能存在的问题,如工艺参数设置不合理、设备兼容性问题、产品设计缺陷等。通过对试生产产品的检测和分析,能够对工艺进行优化和改进,避免在大规模生产中出现批量性的质量问题,降低生产成本和风险。
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